|
|
|
2003-10-22 |
IMEC, EVG¿Í ¿þÀÌÆÛ ¼öÁØÀÇ ÆÐŰ¡°ú ¿þÀÌÆÛ Á¢Âø ±â¹ý¿¡ °üÇØ Á¦ÈÞ Asahi Glass»ç´Â Á¾·¡ÀÇ Á¦Ç°¿¡ ºñÇØ ¿¡³ÊÁö ¹Ðµµ¸¦ °ÅÀÇ 3¹è³ª °³¼±ÇÑ Àü±â ÀÌÁßÃþ Äܵ§¼¸¦ °³¹ßÇß´Ù°í ¹ßÇ¥Çß´Ù.
|
|
2003-10-20 |
Tanner, ȸ·Îµµ¸é¿ë Åø Ãâ½Ã Tanner EDA»ç´Â ÀÚ»çÀÇ L-Edit ¼³°è ¼ÒÇÁÆ®¿þ¾î¸¦ À§ÇÑ È¸·Îµµ¸é Á¶ÀÛ Åø L-Edit/SDLÀ» Ãâ½ÃÇß´Ù.
|
|
2003-10-16 |
ÃÖÃÊ·Î ½Ã¿¬ µÈ MEMS ±â¹ÝÀÇ ´Ùä³Î °¡º¯ »ö ºÐ»ê º¸»ó±â »ö ºÐ»êÀÇ °ü¸®´Â ³ôÀº ºñÆ® Àü¼Û·üÀÇ DWDM ½Ã½ºÅÛ¿¡¼ °¡Àå Áß¿äÇÑ ±â¼úµé °¡¿îµ¥ ÇϳªÀÌ´Ù.±¤¼¶À¯ Åë½Å ÄÁÆÛ·±½º ³í¹®ÀÎ "MEMS ¹× ȸÀý °ÝÀÚ ±â¹ÝÀÇ ´Ùä³Î °¡º¯ »ö ºÐ»ê º¸»ó±â"ÀÇ ³»¿ëÀ» °£´ÜÈ÷ »ìÆì º»´Ù.
|
|
2003-10-09 |
SUSS MicroTec, ȹ±âÀûÀÎ ¿þÀÌÆÛ º»µù ±â¼ú ¹ßÇ¥ SUSS MicroTec AG´Â Ç¥¸é µ¿ÀÛ ¹æ½Ä°ú ³ª³ë PREP¶ó°í ÇÏ´Â ¿þÀÌÆÛ Åõ ¿þÀÌÆÛ ¿¬°á ¹æ½ÄÀ» µµÀÔÇß´Ù. SUSS MicroTec»ç¿¡ ÀÇÇϸé ÀÌ ¹æ½ÄÀº DWB (direct wafer bonding)À» ÀÌ¿ëÇÏ´Â SOI¿Í º¯Çü ½Ç¸®ÄÜ °°Àº ¹ÝµµÃ¼ Àç·á Á¦ÀÛÀ» °¡´ÉÇÏ°Ô ÇÑ´Ù.
|
|
2003-09-25 |
TIÀÇ Á¦¾î±â, BEI»çÀÇ ¼¾¼ ±â¼ú Áö¿ø Texas Instruments(TI)»ç´Â (BEI Technologies»çÀÇ »ç¾÷ºÎ¹®ÀÎ BEI Systron Donner Inertial Division(SDID)ÀÌ ÀÚ»çÀÇ BEI MEMS °ü¼º ÃøÁ¤ÀåÄ¡(IMU)ÀÎ MMQ-50¿¡ »ç¿ëÇϱâ À§ÇØ TI»çÀÇ TMS320F2812Çü µðÁöÅÐ ½ÅÈ£ Á¦¾îÀåÄ¡¸¦ ¼±ÅÃÇß´Ù°í ¹ßÇ¥Çß´Ù.
|
|
2003-09-04 |
ÇÏÀ̴нº, µ¿¿ìÈÀÎÄͰú ±¸¸® ¿¬¸¶¿ë ½½·¯¸® °øµ¿ °³¹ß ÇÏÀ̴нº¹ÝµµÃ¼´Â ±¹³» Á¾ÇÕÁ¤¹ÐÈÇÐ ¾÷üÀÎ µ¿¿ìÈÀÎÄÍ»ç¿Í °øµ¿À¸·Î ±¸¸®¹è¼± °øÁ¤¿¡ Àû¿ëµÇ´Â ±¸¸® ¿¬¸¶¿ë ½½·¯¸®(Slurry)¸¦ °³¹ßÇß´Ù°í ¹àÇû´Ù.
|
|
2002-05-14 |
¸¶ÀÌÅ©·Î¸Ó½Å ¹æ½ÄÀÇ ¹ÝµµÃ¼ ¼³°è¿Í Á¦Á¶ ÀÌ ¾ÖÇø®ÄÉÀÌ¼Ç ³ëÆ®´Â ¹ÝµµÃ¼ ¸¶ÀÌÅ©·Î¸Ó½Å ¹æ½ÄÀ¸·Î ¼³°è ¹× Á¦Á¶µÇ´Â IC ¼¾¼ÀÇ Æ¯Â¡°ú ±â´É¿¡ ´ëÇØ ¼³¸íÇÑ´Ù.
|
|
2001-06-01 |
2001: °í¹Ðµµ ±â´É¼º ȸ·ÎÀÇ ½Ã´ë °ÅÀÇ ¸ðµç ÀüÀÚ Á¦Ç°µéÀÌ ¼ÒÇüÈ µÇ°í ¶ÇÇÑ °·ÂÇÑ ¼º´ÉÀ» °®°Ô µÊ¿¡ µû¶ó, Á¦Á¶ ´Ü°è¿¡¼´Â ´õ ¸¹Àº Çõ½Å°ú °í¹ÐµµÀÇ ÀÎÅÍÄ¿³ØÆ®, ±×¸®°í ´ëµÎµÇ´Â ÇØ°á °úÁ¦µéÀ» ¹Ì¸® ÇØ°áÇÒ º¸´Ù ³ªÀº ÅøµéÀÌ ÇÊ¿äÇØÁö°Ô µÉ °ÍÀÌ´Ù.
|
|
2001-05-15 |
MEMS¿Í MOEMS ÆÐŰ¡ÀÇ Çõ¸íÀ» °¡Á® ¿Â '°ÔÅÍ' '°ÔÅÍ'´Â MEMS¿Í MOEMS¿¡¼ ÇÙ½ÉÀû ¿ªÇÒÀ» ÇÏ¿© Àú°¡ÀÇ ÆÐŰ¡À» °¡´ÉÄÉ ÇØÁÙ °ÍÀÌ´Ù.ÀÌÁß ¸ñÀûÀÇ ¼öºÐ ÀÔÀÚ °ÔÅ͵éÀº ÀÌ»óÀûÀÎ Á¦Ç°À¸·Î ¿©°ÜÁö°í ÀÖÀ¸¸ç, ÀϺΠ»ó¿ë ±¤ MEMS Á¦Ç°¿¡¼´Â ÀÌ¹Ì »ç¿ëµÇ°í ÀÖ´Ù.
|
|
|